波峰焊接表麵的潔淨度和電(diàn)子汙染介紹
發布時間:2021-02-27 瀏覽(lǎn):次 責任編輯:晉力達
波峰焊接是電子行業較為普遍的一種自動(dòng)焊接技術,它具有焊(hàn)接質量可靠,焊點外觀(guān)光亮,飽滿,焊接一致性好,操作簡便(biàn),節省能源,降低工人勞動(dòng)強度等特點。下麵由小編給大家介紹一下波峰焊接表麵的潔淨度和電子汙染介紹。(如果您(nín)想了解更多波峰焊,歡迎在線谘詢:400-9932 122)
1、波峰焊(hàn)接後保(bǎo)持(chí)被焊(hàn)表麵淨度的意義
在波峰焊(hàn)接後適當清除助焊劑殘留物,無論怎樣強調都不過分。從化學角度來看,任何一種有效的助焊劑都必然存在一定的腐蝕性;否則,它就不能從被焊表麵清除掉氧化膜。因此(cǐ),某(mǒu)些助(zhù)焊劑製造商聲稱其助焊劑無腐蝕性的論點是不能成立的。即使是“免清洗助焊劑”,在高可靠性的PCB電路中也(yě)會存在危險性。殘留物的腐蝕現象能損壞導體,使線路的電陰增(zēng)高。腐蝕還會使導體強度降低(dī)和脆化而使導體發生機械故障。此外,離子性殘留物會產生漏電流,而且其大小是隨大氣溫度變化而變(biàn)化的,有時斷續出現,對電子組裝件的危害來源(yuán)於可電離材料的存在,大多數可電離材料為鹵表(如氯化物(wù)等),在(zài)腐蝕中起主要作用的是氯(lǜ)化(huà)物。
波焊峰接後的釺料表麵(miàn),在有空氣的情況下,空氣也同樣會被吸附於釺料表麵,由於鍵(jiàn)的相互飽和,將使空(kōng)氣分子緊貼表麵,在采(cǎi)用含(hán)鉛釺料的情況下,空氣中的(de)氧與(yǔ)釺料中的Pb、Sn反應後,將形成氧(yǎng)化鉛和氧化錫薄膜。
2、在氯離子作用下被焊表麵出現鏽蝕的原理
通常金屬鉛因表麵覆蓋著(zhe)一(yī)層結構致密、附著(zhe)力強的氧化鉛層的保護而不受環境的浸蝕。然而,假如在PCB表麵殘留有某些含有氯(lǜ)離(lí)子(如含鹵素的活性鬆香助焊劑、空氣中存在含有氯(lǜ)的鹽霧成分及汗漬等)的殘留(liú)物,那麽氯(lǜ)離子的(de)作用下將發生的化(huà)學反應(yīng)。所形成的氯化鉛是附著(zhe)力相當差的化合物,在含有CO2的潮溫空氣中,氯化鉛(qiān)是不(bú)穩定的。循環腐蝕反應(yīng)式的左下部可以看出,氯化鉛很容易轉變為較穩定的碳酸鉛,並在該轉(zhuǎn)變過程中釋放出另一個氯離(lí)子,該氯離(lí)子會再次遊離浸(jìn)蝕(shí)氧化鉛層。該(gāi)轉變過程的(de)最終(zhōng)產物碳酸鉛層是多(duō)孔的白色材料,它不能(néng)保護金屬。結果,大(dà)氣中的氧將(jiāng)接觸金屬鉛並重新氧化金屬鉛(qiān)的表(biǎo)麵,氧化鉛因(yīn)存在氯離子的浸蝕,再次轉變為氯化鉛,在氯化(huà)鉛進一步(bù)轉換為碳鉛時重新生成氯離(lí)子。而且隻要環境中有水和二氧化(huà)碳,這種腐蝕過程將永無休止地循環進行下去,直到釺料中的鉛全部被消耗殆(dài)盡為止,從而造(zào)成電子裝備的徹底損(sǔn)壞。因(yīn)此研究被(bèi)焊後表麵(miàn)的(de)潔淨度狀況對某些高可靠性產品來說是非常重要的。
3、表麵潔淨(jìng)度和(hé)電子汙染
上麵介結的腐蝕(shí)過程,主要是被焊表麵不潔淨。那麽表(biǎo)麵應潔淨到什麽程度才算淨化了呢?不(bú)同(tóng)用途和(hé)不同使用(yòng)環境(jìng)的產品需要的淨(jìng)化程度(dù)也是不同的。因此,目前還沒有適用於所有設備的明確(què)潔淨度標準。例如,家用電器(qì)(如收音機、電視機等)對(duì)淨化的要求與飛機、導彈、衛星等設備的要求就可能完(wán)全(quán)不同。家用電子設備波峰焊接後不清潔不會構成嚴(yán)重危害,而對要求高可靠性的軍用產品來說,情況就完全不一樣了。焊後進行徹底的清洗,這樣既可除去(qù)多餘物(wù)又可消除(chú)由於離子汙染而使可靠性下降的潛在危險。監控PCB焊後的表麵淨(jìng)化程度,最關鍵的(de)還是要測定(dìng)PCB上的離子汙染(rǎn)程度。
清潔度測試(shì)是用(yòng)於測定有(yǒu)機、無(wú)機和離(lí)子化或非離子化的汙染物,生產實踐表明在PCBA上汙染物(wù)的主(zhǔ)要案例有(yǒu):助焊(hàn)劑殘留物、顆粒性物質、化學鹽類殘渣、指印、腐蝕(氧化)白色殘渣(zhā)等。由於上述汙染物具有的危害性,因此對於高可靠(kào)性(xìng)按IPC-TM-650的2.2.25和規(guī)定方法進行離子汙染物測試,試驗時用於清洗試樣溶(róng)劑的電陰率應不小於2×106Ω.cm,或相當於1.56ug/cm2的氧化鈉含量。